半导体光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料，决定了半导体图形工艺的精密程度和良率。作为高精尖的半导体制造核心材料，由于技术壁垒和客户壁垒高，全球半导体光刻胶市场集中度高，市场被美日公司长期垄断。国内在半导体光刻胶领域自给率低，高端ArF 光刻胶则完全依赖进口，中美贸易摩擦下，出于半导体产业安全的考虑，光刻胶自主可控意义凸显。以日本光刻胶发展史为鉴，我们认为在拥有全球最大电子产业和半导体市场的中国，持续扩大的本土半导体产能、国家政策和决心与集成电路大基金的支持都将为中国国产光刻胶提供前所未有的发展新机遇。

光刻是半导体制造微图形工艺的核心，光刻胶是关键材料 ............................................... 4

光刻胶是光刻工艺的核心材料 ................................................................................... 4

光刻胶主要技术参数决定了图形工艺的精密程度和良率 ................................... 5

光刻胶依据不同的产品标准进行分类 ................................................................ 6

曝光波长是半导体光刻胶最常见的分类依据 ...................................................... 7

光刻是半导体制造关键工艺，光刻胶通过曝光显影实现图形转移 ............................. 7

半导体光刻制程通常遵循八步基本工艺 ............................................................. 8

半导体光刻胶行业壁垒明显，市场遭遇国外垄断 ............................................................ 10

半导体光刻胶属高精尖材料，随光刻工艺演进细分种类繁多 .................................. 10

全球半导体技术持续演进，光刻胶发展空间扩大 .................................................... 11

器件尺寸随摩尔定律缩小，光刻胶不断革新，多重曝光带来用量提升 ............ 11

NAND Flash 堆叠层数大幅增加，为光刻胶用量带来增长机会 ....................... 12

日企垄断半导体光刻胶市场，高端市场头部聚集效应越发明显 .............................. 13

国产光刻胶产品结构不平衡，高端半导体光刻胶依赖进口 ...................................... 15

以史为鉴，半导体产业转移激发中国光刻胶产业机遇..................................................... 16

半导体产业转移和分工，日本光刻胶崛起 ............................................................... 16

全球电子产业转移带动半导体产业转移 ........................................................... 16

在集成电路产业发展史上，欧美厂商领导了前期光刻胶产品的研发 ............... 16

半导体产业转移与分工细化，日本光刻胶借机崛起 ......................................... 17

以日本为鉴，中国已成全球最大半导体市场，为光刻胶自主发展提供空间 ............ 17

中国晶圆制造产能持续扩张，半导体光刻胶迎历史机遇 ................................. 18

外部环境复杂多变，政策和大基金共同助力，半导体光刻胶国产替代正当时 . 19

国内半导体光刻胶产业链重点公司情况 ................................................................... 20