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半导体材料行业：光刻胶进口受制于人，但国产品牌刚刚起步－半导体系列一，光刻胶
在我国成熟制程、14nm FinFET、存储厂纷纷建产后，光刻胶作为集成电路光刻工艺的关键材料，未来的市场需求将步入高速增长。但目前国内晶圆厂的光刻胶绝大部分依赖于TOK、信越、DOW等国际品牌，国产化品牌北京科华、瑞红在I-line 光刻胶和KrF 光刻胶有所突破，南大光电、上海新阳在ArF 光刻胶有布局。
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