薄膜生长是采用物理或化学方法使物质附着于衬底材料表面的过程，常见生长物质包括金属、氧化物、氮化物等不同薄膜。根据工作原理不同，薄膜沉积生长设备可分为：物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积（CVD）和外延等类别。大部分绝缘薄膜使用CVD，金属薄膜常用PVD（主要是溅射）。CVD 的使用越来越广泛，基于CVD发展的ALD 更是行业升级的技术方向。

一、薄膜设备：用于沉积物质，实现晶圆表面薄膜生长 ............................................................................... 3

二、薄膜市场以CVD、PVD 为主，国内需求空间较大 ........................................................................................ 6

三、国产订单导入，北方华创、沈阳拓荆逐步放量 ........................................................................................ 10

四、全球龙头AMAT，产品组合丰富，装机存量优势大 ................................................................................. 13

五、国内龙头：北方华创引领国产沉积，沈阳拓荆开拓PECVD ........................................................................... 16

六、风险提示 ....................................................................................................................................................... 20