关键词：电子行业；光刻胶；TOK ；
摘 要：光刻胶按照显影效果可分为正性光刻胶和负性光刻 胶，正性光刻胶的应用更为广泛。光刻胶的原料包括光引发剂、树脂、溶剂、单体及其他助剂等。光刻胶单体工艺难度大， 认证周期长，进入壁垒高。除上游原材料壁垒外，半导体光刻胶国产化还具有配方、设备、客户验证等多重壁垒。光刻胶生 产配套设备光刻机成本高，光刻胶的研发具有较高的门槛。
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